三氟化氮是卤化氮中最稳定的，可在钙的催化下由氨气与氟气制成。 它可以用作氟化氢激光器的氧化剂，半导体、液晶和薄膜太阳能电池生产过程中的蚀刻剂。曾被试做火箭燃料。 但由于三氟化氮具有温室效应，因此有人认为应该限制这种化合物的使用。

CAS：7783-54-2
中文别名：氟化氮;
英文别名：Trifluoroammonia;Trifluoramine;nitrogen fluoride;Nitrogen trifluoride;Perfluoroammonia;NF3;Trifluoroamine;Trifluorammonia;N,N,N-Trifluoroamine;Stickstofftrifluorid;
分子式：F3N
分子量：71.0019
精确质量：70.9983
Psa：3.24
Logp：0.9419

UNII：4402F4X0RH

外观与性状：无色气体
密度：1.361 g/cm3
沸点：-129°C
熔点：-207°C
折射率：1.187
水溶解性：insoluble
储存条件：库房通风低温干燥,轻装轻卸,与氢气、还原剂、油脂分开存放

安全说明：S17-S23-S38
危险类别码：R8
危险品运输编码：2451
危险类别：2.2
危险品标志：O

生产方法
在熔融氟铵酸存在下，采用氨直接氟化工艺，其反应式为：反应产物经过除雾器、淋洗器、分子筛吸附器，以及真空蒸馏，可分别除去各种杂质，最后用低温法收集得到NF3。 NF3是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体，对硅和氮化硅的蚀刻，采用NF3和CF4＋O2的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性，而且对表面无污染。氢与NF3反应，在瞬间伴随放出大量的热，这就是NF3在高能化学激光器方面大量应用的原理。在高温下，NF3与有机化合物反应常伴有爆炸性，操作时应十分谨慎。用作高能燃料。
用途
NF3是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体，对硅和氮化硅的蚀刻，采用NF3和CF4＋O2的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性，而且对表面无污染。氢与NF3反应，在瞬间伴随放出大量的热，这就是NF3在高能化学激光器方面大量应用的原理。在高温下，NF3与有机化合物反应常伴有爆炸性，操作时应十分谨慎。用作高能燃料。