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化合物简介
三氯氢硅是一种无机化合物,化学式为SiHCl3。
基本信息
CAS:10025-78-2
中文别名:三氯硅烷;
英文别名:trichlorosilyl hydride;Silicochloroform;siliciumchloroform;triclorosilano;trichlorsilan;trichloorsilaan;Silane,trichloro;trichloro-silan;trichlorohydrosilane;tri-chlorosilane;silanea-19;silici-chloroforme;
分子式:Cl3HSi
分子量:135.452
精确质量:133.891
Psa:0.0
Logp:1.42
中文别名:三氯硅烷;
英文别名:trichlorosilyl hydride;Silicochloroform;siliciumchloroform;triclorosilano;trichlorsilan;trichloorsilaan;Silane,trichloro;trichloro-silan;trichlorohydrosilane;tri-chlorosilane;silanea-19;silici-chloroforme;
分子式:Cl3HSi
分子量:135.452
精确质量:133.891
Psa:0.0
Logp:1.42
编号系统
MDL号:MFCD00011518
EINECS号:233-042-5
EINECS号:233-042-5
物化性质
外观与性状:液体
密度:1.342g/mLat 25°C(lit.)
沸点:32-34°C(lit.)
熔点:-127 °C
闪点:7°F
折射率:1.4-1.402
水溶解性:decomposes
稳定性:Stable, but extremely flammable. Pyrophoric - spontaneously ignites in air. Explosion hazard in air - note wide explosion limits. Reacts violently with water. Incompatible with moisture, acids, bases, strong oxidizing agents, alcohols, amines.
储存条件:库房通风低温干燥,与氧化剂、酸类分开存放
蒸汽密度:1 (vs air)
蒸汽压:9.75 psi ( 20 °C)
密度:1.342g/mLat 25°C(lit.)
沸点:32-34°C(lit.)
熔点:-127 °C
闪点:7°F
折射率:1.4-1.402
水溶解性:decomposes
稳定性:Stable, but extremely flammable. Pyrophoric - spontaneously ignites in air. Explosion hazard in air - note wide explosion limits. Reacts violently with water. Incompatible with moisture, acids, bases, strong oxidizing agents, alcohols, amines.
储存条件:库房通风低温干燥,与氧化剂、酸类分开存放
蒸汽密度:1 (vs air)
蒸汽压:9.75 psi ( 20 °C)
安全信息
RTECS号:VV5950000
安全说明:S16-S26-S36/37/39-S43-S45-S7/9-S43A
WGK Germany:1
危险类别码:R12; R14; R17; R20/22; R29; R35
危险品运输编码:UN 1295 4.3/PG 1
危险类别:4.3
包装等级:I
危险品标志:F+; C
信号词:Danger
危险性描述:H224; H250; H302 + H332; H314
危险标志:GHS02, GHS05, GHS07
补充危害声明:与水接触释放出有毒气体,遇水反应剧烈。
危险性防范说明:P210; P280; P303 + P361 + P353; P305 + P351 + P338; P370 + P378; P422
安全说明:S16-S26-S36/37/39-S43-S45-S7/9-S43A
WGK Germany:1
危险类别码:R12; R14; R17; R20/22; R29; R35
危险品运输编码:UN 1295 4.3/PG 1
危险类别:4.3
包装等级:I
危险品标志:F+; C
信号词:Danger
危险性描述:H224; H250; H302 + H332; H314
危险标志:GHS02, GHS05, GHS07
补充危害声明:与水接触释放出有毒气体,遇水反应剧烈。
危险性防范说明:P210; P280; P303 + P361 + P353; P305 + P351 + P338; P370 + P378; P422
生产方法及用途
生产方法
1.沸腾氯化法 硅粉经干燥后加入氯化沸腾炉,与通人炉中的干燥氯化氢气体在340℃进行反应。生成的粗三氯氢硅经湿法除尘器、列管冷凝器去蒸馏塔分离四氯化硅,由蒸馏塔出来的三氯氢硅气体经冷凝,制得三氯氢硅成品。 用于有机硅烷和烷基、芳基以及有机官能团氯硅烷的合成,是有机硅烷偶联剂中最基本的单体,也是生产半导体硅、单晶硅的原料,随着有机硅烷偶联剂工业的发展而出现供不应求,生产量越来越大。
用途
用于有机硅烷和烷基、芳基以及有机官能团氯硅烷的合成,是有机硅烷偶联剂中最基本的单体,也是生产半导体硅、单晶硅的原料,随着有机硅烷偶联剂工业的发展而出现供不应求,生产量越来越大。
1.沸腾氯化法 硅粉经干燥后加入氯化沸腾炉,与通人炉中的干燥氯化氢气体在340℃进行反应。生成的粗三氯氢硅经湿法除尘器、列管冷凝器去蒸馏塔分离四氯化硅,由蒸馏塔出来的三氯氢硅气体经冷凝,制得三氯氢硅成品。 用于有机硅烷和烷基、芳基以及有机官能团氯硅烷的合成,是有机硅烷偶联剂中最基本的单体,也是生产半导体硅、单晶硅的原料,随着有机硅烷偶联剂工业的发展而出现供不应求,生产量越来越大。
用途
用于有机硅烷和烷基、芳基以及有机官能团氯硅烷的合成,是有机硅烷偶联剂中最基本的单体,也是生产半导体硅、单晶硅的原料,随着有机硅烷偶联剂工业的发展而出现供不应求,生产量越来越大。
合成路线
上游原料
下游产品
图谱
IR : liquid film
