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  • 乙二胺四亚甲基膦酸

    [1,2-Ethanediylbis[Nitrilobis-(Methylene)]]Tetrakis-Phosphonic Acid

化合物简介

EDTMP or ethylenediamine tetra(methylene phosphonic acid) is a phosphonic acid. It has chelating and anti corrosion properties. EDTMP is the phosphonate analog of EDTA. It is classified as a nitrogenous organic polyphosphonic acid.

基本信息

CAS:1429-50-1
中文别名:乙二胺四甲叉膦酸,N,N,N\',N\'-乙二胺四(亚甲基膦酸)水合物;阻垢剂 EDTMP,乙二胺四甲叉磷酸;乙二胺四甲叉膦酸;乙二胺四甲叉膦酸(EDTMPA);亚乙基二胺四亚甲基膦酸;N,N,N\',N\'-乙二胺四甲叉膦酸水合物;N,N,N\',N\'-乙二胺四(亚甲基膦酸);
英文别名:Ethylenediaminetetra(methylenephosphonic acid);EDTMP,EDTMPA;Ethylenebis(nitrilodimethylene)tetraphosphonic acid;N,N,N\',N\'-Ethylenediaminetetrakis(methylenephosphonic Acid) Hydrate;
分子式:C6H20N2O12P4
分子量:436.124
精确质量:435.997
Psa:275.84
Logp:-1.8688

编号系统

EINECS号:215-851-5

物化性质

密度:1.993 g/cm3
沸点:878.7ºC at 760 mmHg
闪点:485.2ºC
折射率:1.622
蒸汽压:2.43E-34mmHg at 25°C

安全信息

安全说明:S26-S36/37/39
危险类别码:R36/37/38
海关编码:2931900090
危险品标志:Xi

生产方法及用途

生产方法
1.有三种合成方法。 用作蒸汽锅炉的阻垢缓蚀剂、循环冷却水的阻垢剂、过氧化物的稳定剂、电镀工业金属离子螯合剂等EDTMP为亚甲基膦酸阴极缓蚀剂,较无机聚磷酸盐有更突出的阴极防护作用,缓蚀率要高7倍左右。在200℃下有较好的阻垢作用。EDTMP与聚马来酸酐复配可以有效地降低结垢速度。EDTMP做阻垢剂单独使用浓度为10mg/L,EDTMP做缓蚀剂单独使用浓度大于100mg/L,EDTMP与低相对分子质量阻垢复合使用浓度小于5mg/L。EDTMP与葡萄糖酸钠复配可以对金属表面进行清洗和处理,去除金属表面的油脂。此外,高纯级的EDTMP可以用作电子行业中半导体芯片的清洗剂;在医药行业作放射性元素的携带剂,用于检查和治疗疾病;EDTMP具有很强的螯合金属离子的能力,与铜离子的络合常数是包括乙二胺四乙酸在内的所有螯合剂中最大的,几乎在所有使用乙二胺四乙酸作螯合剂的地方都可用EDTMP替代。EDTMPA具有很强的螯合金属离子的能力,与铜离子的络合常数是包括EDTA在内的所有螯合剂中最大的。几乎在所有使用EDTA作螯合剂的地方都可用EDTMPA替代。
用途
用作蒸汽锅炉的阻垢缓蚀剂、循环冷却水的阻垢剂、过氧化物的稳定剂、电镀工业金属离子螯合剂等EDTMP为亚甲基膦酸阴极缓蚀剂,较无机聚磷酸盐有更突出的阴极防护作用,缓蚀率要高7倍左右。在200℃下有较好的阻垢作用。EDTMP与聚马来酸酐复配可以有效地降低结垢速度。EDTMP做阻垢剂单独使用浓度为10mg/L,EDTMP做缓蚀剂单独使用浓度大于100mg/L,EDTMP与低相对分子质量阻垢复合使用浓度小于5mg/L。EDTMP与葡萄糖酸钠复配可以对金属表面进行清洗和处理,去除金属表面的油脂。此外,高纯级的EDTMP可以用作电子行业中半导体芯片的清洗剂;在医药行业作放射性元素的携带剂,用于检查和治疗疾病;EDTMP具有很强的螯合金属离子的能力,与铜离子的络合常数是包括乙二胺四乙酸在内的所有螯合剂中最大的,几乎在所有使用乙二胺四乙酸作螯合剂的地方都可用EDTMP替代。EDTMPA具有很强的螯合金属离子的能力,与铜离子的络合常数是包括EDTA在内的所有螯合剂中最大的。几乎在所有使用EDTA作螯合剂的地方都可用EDTMPA替代。

合成路线

上游原料

下游产品

图谱

Predict 1H proton NMR


13C NMR : Predict


1H NMR : Predict


IR : KBr disc


IR : nujol mull


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