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化合物简介
基本信息
CAS：13765-26-9
中文别名：无水氟化钆;
英文别名：Gadolinium(III) fluoride;Gadolinium tribromide;Gd tribromide;gadolinim fluoride;Gd fluoride;gadolinium trifluoride;
分子式：F3Sc
分子量：101.951
精确质量：101.951
Psa：0.0
Logp：1.2606
中文别名：无水氟化钆;
英文别名：Gadolinium(III) fluoride;Gadolinium tribromide;Gd tribromide;gadolinim fluoride;Gd fluoride;gadolinium trifluoride;
分子式：F3Sc
分子量：101.951
精确质量：101.951
Psa：0.0
Logp：1.2606
编号系统
MDL号：MFCD00016113
EINECS号：237-369-4
PubChem号：24867075
EINECS号：237-369-4
PubChem号：24867075
物化性质
外观与性状：白色结晶固体
密度：7.1
沸点：19.5ºC at 760 mmHg
熔点：1231°C
密度：7.1
沸点：19.5ºC at 760 mmHg
熔点：1231°C
安全信息
安全说明：S26-S36
危险类别码：R36/37/38
WGK Germany：3
危险品运输编码：UN 3288 6.1/PG 3
危险类别：6.1
包装等级：III
危险品标志：Xi
危险类别码：R36/37/38
WGK Germany：3
危险品运输编码：UN 3288 6.1/PG 3
危险类别：6.1
包装等级：III
危险品标志：Xi
生产方法及用途
生产方法
氢氟酸沉淀真空脱水法。先将氢氟酸加到硫酸钆溶液中,析出水合氟化钆,然后在真空中加热脱去结晶水。 氢氟酸浓度一般为40%～48%,它的消耗量是理论量的110%～120%。从水溶液中析出的氟化物沉淀体积大,吸附有不少的硫酸根离子,必须用水充分洗涤,水洗采用倾泻法。过滤后的沉淀物在100～150℃下干燥,以脱去吸附水。得到只含结晶水的氟化物。为避免脱水中发生高温水解,生成氟氧化物GdOF,脱水过程需在真空中加热进行。真空度要高于 光学镀膜、光纤掺杂、激光晶体、单晶原料、激光放大器、催化助剂等。
用途
光学镀膜、光纤掺杂、激光晶体、单晶原料、激光放大器、催化助剂等。
氢氟酸沉淀真空脱水法。先将氢氟酸加到硫酸钆溶液中,析出水合氟化钆,然后在真空中加热脱去结晶水。 氢氟酸浓度一般为40%～48%,它的消耗量是理论量的110%～120%。从水溶液中析出的氟化物沉淀体积大,吸附有不少的硫酸根离子,必须用水充分洗涤,水洗采用倾泻法。过滤后的沉淀物在100～150℃下干燥,以脱去吸附水。得到只含结晶水的氟化物。为避免脱水中发生高温水解,生成氟氧化物GdOF,脱水过程需在真空中加热进行。真空度要高于 光学镀膜、光纤掺杂、激光晶体、单晶原料、激光放大器、催化助剂等。
用途
光学镀膜、光纤掺杂、激光晶体、单晶原料、激光放大器、催化助剂等。
